一、噪聲

(一)生產(chǎn)性噪聲的特性、種類、來源及其危害

在生產(chǎn)中，由于機(jī)器轉(zhuǎn)動、氣體排放、工件撞擊與摩擦所產(chǎn)生的噪聲，稱為生產(chǎn)性噪聲或工業(yè)噪聲

噪聲的分類：生產(chǎn)性噪音或工業(yè)噪聲分為三類，空氣動力噪聲、機(jī)械性噪聲、電磁性噪聲 。

1.空氣動力噪聲，是由于氣體壓力變化引起氣體擾動，氣體與其他物體相互作用所致。例如，各種風(fēng)機(jī)、空氣壓縮機(jī)、風(fēng)動工具、噴氣發(fā)動機(jī)和汽輪機(jī)等，由于壓力脈沖和氣體排放發(fā)出的噪聲。

2.機(jī)械性噪聲，是由于機(jī)械撞擊、摩擦或質(zhì)量不平衡旋轉(zhuǎn)等機(jī)械力作用下引起固體部件振動所產(chǎn)生的噪聲。例如，各種車床、電鋸、電刨、球磨機(jī)、砂輪機(jī)和織布機(jī)等發(fā)出的噪聲。

3.電磁性噪聲，是由于磁場脈沖，磁致伸縮引起電氣部件振動所致。如電磁式振動臺和振蕩器、大型電動機(jī)、發(fā)電機(jī)和變壓器等產(chǎn)生的噪聲。

(二)噪聲的危害：生產(chǎn)性噪聲一般聲級較高，有的作業(yè)地點可高達(dá)120～130 dB(A)。

由于長時間接觸噪聲導(dǎo)致的聽閾升高、不能恢復(fù)到原有水平的稱為永久性聽力閾移，臨床上稱噪聲聾。噪聲不僅對聽覺系統(tǒng)有影響，對神經(jīng)系統(tǒng)、心血管系統(tǒng)、內(nèi)分泌系統(tǒng)、生殖系統(tǒng)及消化系統(tǒng)等都有影響。

(三)噪聲的控制措施

1.消除或降低噪聲、振動源，如鉚接改為焊接、錘擊成型改為液壓成型等。為防止振動使用隔絕物質(zhì)，如用橡皮、軟木和砂石等隔絕噪聲。

2.消除或減少噪聲、振動的傳播，如吸聲、隔聲、隔振、阻尼。

3.加強(qiáng)個人防護(hù)和健康監(jiān)護(hù)。

二、振動

振動：全身振動和局部振動

振動危害：造成手臂振動病。

振動的控制措施：

1.控制振動源。應(yīng)在設(shè)計、制造生產(chǎn)工具和機(jī)械時采用減振措施，使振動降低到對人體無害水平。

2.改革工藝，采用減振和隔振等措施。如采用焊接等新工藝代替鉚接工藝;采用水力清砂代替風(fēng)鏟清砂;工具的金屬部件采用塑料或橡膠材料，減少撞擊振動。

3.限制作業(yè)時間和振動強(qiáng)度。

4.改善作業(yè)環(huán)境，加強(qiáng)個體防護(hù)及健康監(jiān)護(hù)。

三、輻射

這種交替變化的，以一定速度在空間傳播的電場和磁場，稱為電磁輻射或電磁波。

電磁輻射分為射頻輻射、紅外線、可見光、紫外線、X射線及α射線等。

當(dāng)量子能量達(dá)到12eV以上時，對物體有電離作用，能導(dǎo)致機(jī)體的嚴(yán)重?fù)p傷，這類輻射稱為電離輻射。

量子能量小于12eV的不足以引起生物體電離的電磁輻射，稱為非電離輻射。

輻射：非電離輻射包括：射頻輻射、紅外線、紫外線、激光;α、β等帶電粒子γ光子、中子，X射線等非 帶電粒子的輻射稱為電離輻射 。

(一)非電離輻射的來源與防護(hù)

1.非電離輻射的來源及其危害

(1)射頻輻射。量子能量很小。按波長和頻率，射頻輻射可分成高頻電磁場、超高頻電磁場和微波3個波段。

不會導(dǎo)致組織器官的器質(zhì)性損傷，主要引起功能性改變，并具有可逆性特征，在停止接觸數(shù)周或數(shù)月后往往可恢復(fù)。但在大強(qiáng)度長期射頻輻射作用下，心血管系統(tǒng)的征候持續(xù)時間較長，并有進(jìn)行性傾向。

(2)紅外線輻射。在生產(chǎn)環(huán)境中，加熱金屬、熔融玻璃及強(qiáng)發(fā)光體等可成為紅外線輻射源。煉鋼工、鑄造工、軋鋼工、鍛鋼工、玻璃熔吹工、燒瓷工及焊接工等可受到紅外線輻射。紅外線輻射對機(jī)體的影響主要是皮膚和眼睛。

(3)紫外線輻射。生產(chǎn)環(huán)境中，物體溫度達(dá)1 200℃以上的輻射電磁波譜中即可出現(xiàn)紫外線。隨著物體溫度的升高，輻射的紫外線頻率增高，波長變短，其強(qiáng)度也增大。常見的輻射源有冶煉爐(高爐、平爐、電爐)、電焊、氧乙炔氣焊、氬弧焊和等離子焊接等。

強(qiáng)烈的紫外線輻射作用可引起皮炎，表現(xiàn)為彌漫性紅斑，有時可出現(xiàn)小水泡和水腫，并有發(fā)癢、燒灼感。在作業(yè)場所比較多見的是紫外線對眼睛的損傷，即由電弧光照射所引起的職業(yè)病——電光性眼炎。

(4)激光

2.非電離輻射的控制與防護(hù)

高頻電磁場的主要防護(hù)措施有場源屏蔽、距離防護(hù)和合理布局等。對微波輻射的防護(hù)，是直接減少源的輻射、屏蔽輻射源、采取個人防護(hù)及執(zhí)行安全規(guī)則。

(二)電離輻射來源與防護(hù)

1.電離輻射來源

凡能引起物質(zhì)電離的各種輻射稱為電離輻射。其中α、β等帶電粒子都能直接使物質(zhì)電離，稱為直接電離輻射;γ光子、中子等非帶電粒子，先作用于物質(zhì)產(chǎn)生高速電子，繼而由這些高速電子使物質(zhì)電離，稱為非直接電離輻射。能產(chǎn)生直接或非直接電離輻射的物質(zhì)或裝置稱為電離輻射源，如各種天然放射性核素、人工放射性核素和X線機(jī)等。

2.電離輻射的防護(hù)

治本——控制輻射源的質(zhì)和量

外照射防護(hù)：外照射——使用封閉型電離輻射或射線裝置,射線由外部對人體進(jìn)行照射。

外(照射)防護(hù)三原則：(1)時間防護(hù)(2)距離防護(hù)(3)屏蔽防護(hù) 內(nèi)照射防護(hù)：圍封隔離、除污保潔、個人防護(hù)